消息一出，迅速在社交媒体上引发热议，微博上甚至出现“上海微电子交付中国首台光刻机”的标签。 这一缺乏定语的信息，让不了解半导体行业的网友误以为国产光刻机终于实现重大突破。 但实际上，上海微电子此次推出的并不是常说的用于芯片前道制造的光刻机，而是用于后道封装的光刻机，这种光刻机的研发门槛相对较低，市场空间也更小。 比如在半导体制造中非常关键的设备刻蚀机，中微半导体完全实现了用于14nm和28nm芯片生产的设备量产，并且已经能够提供用于5nm芯片生产的刻蚀机了，还获得了台积电的认可和支持。 上海微电子的支柱产品虽然还是90nm制程的光刻机，但有关工程师表示，“用于28nm和14nm芯片生产的光刻机成品率还有提升空间”。
其实，早在上世纪60－70年代就有光刻机的概念了，但光刻机真正走上世界舞台，还得从193nm技术突破说起。 自20世纪50年代以来，光刻技术经历了紫外全谱（可见光）、g 线、深紫外（DUV）、极紫外（EUV），等几个阶段，最新的则是ASML 的High-Na级EUV。 除了應用於 IC 前道的光刻機之外，封裝光刻機以及 LED/MEMS/功率器件光刻機利基市場也不斷發展。
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500系列面向IC後道先進封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件製造，200系列面向TFT曝光。 Peter Wennink去年4月就曾公開表達焦慮，指出口管制將加快中國自主研發，「15年時間裏他們將做出所有的東西」，又指中國完全自主掌控供應鏈之後，歐洲供應商將徹底失去市場。 目前，台積電等生產7nm-5nm製程的晶片採用的都是0.33 NA EUV光刻機，阿斯麥正在研發的0.55 NA光刻機每台售價約為3億美元（約合23億港元），比0.33 NA光刻機售價高出一倍。 但是DUV（深紫外光）的波长是193nm，EUV（极紫外光）是13.5nm，更短的DUV波长会被介质吸收，所以28nm显然不是指光源。 从以下公式可以看到，光刻分辨率（R）主要由三个因数决定，分别是光的波长（λ）、镜头半孔径角的正弦值（sinθ）、折射率（n）以及系数k1有关。 美國晶元曾在全球賺取了豐厚的利潤，利潤率普遍超過量程，然而近期美國晶元公布業績的時候卻紛紛出現了衰退，而統計數據顯示中國進口的晶元減少近千億顆，中國不買晶元了是美國晶元遭遇寒冬的原因。
简单来说，前道光刻的主要作用就是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上。 一台前道制造光刻机，集合数学、光学、流体力学等多项顶尖技术，决定着芯片的制程和性能水平。 目前，一台极紫外光刻机（EUV）集成10万多个零部件，重180吨，需要4架货机运输。 上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商，从低端切入各个细分市场，现已成为封测龙头企业的重要供应商，国内市场占有率高达80%，全球市场占有率也有40%，同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，LED光刻机市占率第一。
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其中 IC 前道光刻機需求量和價值量都最高，但是技術難度最大。 而封裝光刻機對於光刻的精度要求低於前道光刻要求，面板光刻機主要用在薄膜電晶體製造中，與 IC 前道光刻機相比技術難度更低。 而在目前的光刻機市場，ASML、Canon 以及Nikon 是最大的三家供應商，佔據了全球99%的市場。 其中ASML 上海微電子28nm光刻機 在高端市場一家獨大，且是全球唯一的EUV 光刻機供應商。 可以說，中國的中高端光刻機市場一直都是被這三家國外廠商所壟斷。 技术先进的EUV光刻机不给中国大陆的厂商，连技术成熟的DUV光刻机也优先给台积电和三星，无奈之下中国企业不得不大举采购二手光刻机。
5G技術不僅是一項國家戰略項目，也是國家推動高質量發展的一個重要戰略領域。 上海微電子28nm光刻機 同時5G技術更廣泛地應用於移動互聯網、工業自動化、物聯網等各個領域。 光刻機屬於半導體產業鏈其中的一環，以目前28納米的國產光刻機是不能完成5G、AI技術實現全面應用的。 半導體基礎技術是我國的薄弱環節，技術需要積累、產業鏈需要完善，目前所有的技術沉澱就是為以後的更大突破做準備。 憑空捏造不出技術，我國的半導體產業要提高自供率，離不開國內相關基礎產業的支撐。 而上海微電子率先推出封裝光刻機，也是為瞭順應市場的需求，此前就算是封裝測試的光刻機，我們都要從海外高價購入二手設備，這也導致瞭產能以及相關性能上有所落後，國產的光刻機在正式面世之後，可以很好的幫助到自主化供應鏈解決封裝測試的問題。
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除了应用于 IC 前道的光刻机之外，封装光刻机以及 LED/MEMS/功率器件光刻机利基市场也不断发展。 数据显示，2018年，Canon 和 Nikon 在 EUV、ArFi、ArF 机型销售量远低于 ASML，二者产品主要集中价值量更低的后道光刻机以及面板光刻机领域。 一方面，随着芯片制程的不断升级，IC 前道光刻机价格不断攀升。 上海微電子自研的國產28nm光刻機，8月完成技術檢測和認證，也意味國產光刻機從90nm一舉突破到28nm。
在目前的光刻机市场，ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商，占据了全球99%的市场。 其中ASML 在中高端光刻机市场更是一家独大，且是全球唯一家拥有可以被用于7nm以下工艺制程的EUV光刻机的供应商。 近几年来，随着先进制程的持续推进，ASML凭借其独家拥有的售价超1亿美元的EUV光刻机，使得其在光刻机市场销售份额持续提升。 其实早在2020年6月的时候，网上就曾传出过国产“28nm光刻机”即将在2020年年底交付的传闻，当时芯智讯根据某开发区发布的新闻稿当中也找到了相关的信息，称“到2020年产品将与整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作”。 但是，到了2020年年底，上海微电子的28nm光刻机并未入传闻那样实现交付。 趁着这几年中国大规模芯片扩产之际，ASML加速交付中国市场DUV光刻机，待中国国产光刻机进入市场时，市场空间还有多少？
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SSB500系列步进投影光刻机主要应用于200mm/300mm集成电路先进封装领域，包括Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等先进封装形式，可满足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级光刻工艺需求。 众所周知，目前国内在芯片制造领域仍处于落后地位，虽然中芯国际等少数晶圆代工厂已经能够量产28/14nm工艺，但是其制造产线上的半导体设备仍严重依赖于美国。 光刻机属于半导体产业链其中的一环，以目前28纳米的国产光刻机是不能完成5G、AI技术实现全面应用的。 半导体基础技术是我国的薄弱环节，技术需要积累、产业链需要完善，目前所有的技术沉淀就是为以后的更大突破做准备。
光刻機還可以用於面板（FPD）領域，中國 FPD 產業處於高速發展階段，市場發展空間巨大。 隨著中國 FPD 生產線的建設和陸續投產及下游電子設備應用多元化發展，中國 FPD 產業步入快速發展時期，產能持續增長。 數據顯示，2018年，Canon 和 Nikon 在 EUV、ArFi、ArF 機型銷售量遠低於 ASML，二者產品主要集中價值量更低的後道光刻機以及面板光刻機領域。 ASML 在技術更先進的 EUV、ArFi、ArF 上海微電子28nm光刻機 機型市場佔有率不斷提升，且遠大於 Canon 和 Nikon。 2017 年 ASML 上述三種機型出貨量總計為101 台，市場份額佔比為 78.29%，到 2018 年 ASML 出貨量增長到 120台，市場份額約 90% 。
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但这种快速的增长当中还是有一些隐忧，中芯国际也表示，由于采购美国相关产品和技术时受到限制，今年下半年依然面临不确定风险。 而且从技术节点上来看，40nm及以上制程是主要的收入来源，28nm和14nm工艺占收入的比重不足7%。 打造和完善国产芯片产业链，突破高端芯片领域“卡脖子”的难题，对中芯国际等国内半导体企业的持续稳定发展，仍然十分关键。
今年7月，青岛新核芯科技有限公司半导体高端封测项目举行机台进场仪式，一台上海微电子的封装光刻机也正式搬入。 也就是说，目前上海微电子最先进的SSA600系列光刻机只能用于90nm制程的芯片制造。 截至发稿，上海微电子尚未对被列入UVL清单一事做出回应。 而药明生物高管今天上午表示，此次被列入UVL主要原因是新冠疫情阻断调查，美国商务部没办法来到中国检查。 该公司CEO陈智胜提到，被列入UVL的企业可以采取有关措施以争取从名单中被移除，主要是公司自己做出承诺（相关出口管制产品用于自用，不作转售），或是等待美国商务部来检查。 目前药明生物美国律师团队正紧急作业，准备明天与美国商务部谈判。
上海微電子28nm光刻機: 上海微电子装备
华为被台积电断供，更等不起，没办法只能走IDM模式自己造芯片，对外招聘光刻机、芯片制造方面的人才，上海微电子有员工跳槽去了华为，然后上海微电子将华为告到了上海政法。 Codasip宣布成立Codasip实验室，以加速行业前沿技术的开Codasip今日宣布成立Codasip实验室（Codasip 上海微電子28nm光刻機 Labs）。 作为公司内部创新中心，新的Codasip实验室将支持关键应用领域中创新技术的开发和商业应用，覆盖了安全、功能安全（FuSa）和人工智能/机器学习（AI/ML）等方向。 近日，“富士康引入46台国产28nm光刻机”成为热点话题，就连腾讯新闻也开始推送这则新闻。 上海微電子28nm光刻機 有网友称这意味着大陆生产的光刻机实现从90nm到28nm的跨越，还有网友表示华为芯片的产能有望恢复，更有网友称ASML担忧的事情正在发生。 上海微電子28nm光刻機 但经过EDN小编的查证，“富士康引入46台国产28nm光刻机”其实是台媒闹了乌龙。
如今已经是五月中旬，上海微电子的28nm光刻机进展如何，却迟迟没有官方的正式消息。 有人猜测可能是在光源或者光学模组上面遇到了困难，也有消息称28nm的光刻机可能会在下半年才能下线。 据一位从事光刻技术研发的网友介绍，半导体、芯片这类行业事实上很庞大，不是像人们想象那样，拿着高额的工资，做一些炫目的技术操作那么轻松。 从硅的采集、提纯，到晶圆的切割、光刻八步，再到刻蚀、芯片测试，最后封装，每一个步骤对技术的要求都及其严苛，而“光刻”是成本最高、经验最匮乏的一步。